光氧一体机的工业废水

2018-08-20  来自: 威尼斯平台官网 浏览次数:124

  光氧一体机的工业废水,当能量高于半导体禁带宽度的光子照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,从价带跃迁到导带,从而产生带正电荷的光致空穴和带负电荷的光生电子。

  1、含油废水

  近年来,利用半导体粉末的悬浮体系光催化降解水中有机污染物的研究引起各国学者的关注。杨阳、陈爱平等以膨胀珍珠岩为载体,用浸涂烧结法制备了漂浮负载型TiO2/EP光催化剂,并对制备催化剂的工艺条件及水面浮油的光催化降解过程进行了初步研究,结果表明经 7h 光照后该种催化剂能降解癸烷 95%以上,且能较长时间漂浮于水面,便于大面积抛洒并易于拦截和回收,具有实用开发价值。陈士夫等利用空心玻璃球负载 TiO2 清除水面漂浮的油层,在 375 W高压汞灯照射 120 min,正十二烷的光催化去除率为 93.5%, 80 min 甲苯的去除率达 。通入空气或加入 H2O2 可以大大地提高光催化的效果,当 H2O2 的量为 5.0 mmol/L时, 40 min 后, 甲苯的去除率达 。

  2、印染废水

  现在传统的处理方法,比如,吸附法,电化学法,电凝法,生物法等,只能把污染物从一种物相转化为另一种物相,不能使污染物得到分解或化,而光催化氧化能够把印染废水中的有害物质分解为 H2O、 CO2 等有机小分子和其他物质,消除了二次污染。王成国采用纳米级 TiO2 悬浮法光催化氧化处理直接耐晒翠蓝染液(染料浓度 100mg/L, TiO2 用量 1000mg/L),当光照时间大于 200min 时,色度去除率达到 93%, TOC去除率达到 50%。罗洁、陈建山对色度 375、 pH值 5.35、 CODcr 595.16 mg/L的模拟墨印染废水采用光催化处理后脱色率达90%, CODcr 脱除率达 80%左右。

关键词: 光氧一体机           

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